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日本沙磨理工thermo roki紅外線真空加熱爐詳情

發(fā)布時間:2020-09-23 點擊量:1942

日本沙磨理工thermo roki紅外線真空加熱爐

只有安裝在各種氣氛(例如超高真空或氣流)中的樣品才能通過紅外線精que定位,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。

它可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號。

 
 
快速升溫:gao升溫速度150℃/秒,gao1500℃約1min
清潔加熱:不用擔心熱源或電磁感應(yīng)產(chǎn)生的氣體
局部供暖:僅用紅外線照射樣品,請勿加熱周圍環(huán)境
可自由安裝:可以連接到各種真空系統(tǒng)(ICF70)
 
 
Si和SiC石墨烯等樣品的高速升溫和退火
氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
在氫氣和氮氣中加熱基材
在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
在分析儀中加熱樣品,例如加熱的解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等。
在磁場中加熱,在非磁場中加熱
在加壓氣氛中加熱
加熱樣品
超高真空型GVH
 
型號名稱GVH198GVH298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1200℃1400℃
 受熱面φ20毫米
 大加熱速度1℃/秒
 大極限真空5×10 -9
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
 
 高速升溫型GV / GVL
 
型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
 紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
 gao溫度1100℃1300℃1500℃1600℃
 受熱面φ14毫米φ20毫米
 大加熱速度100℃/秒100-150℃/秒
 大極限真空5×10 -7
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
 
 加壓氣氛類型GVP
 
型號名稱GVP198GVP298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1200℃1300℃
 受熱面 φ20毫米
 大加熱速度 100℃/秒
 大耐壓 1MPa以下
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘

 

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