壓電材料 ScAlN 薄膜厚度檢測技術介紹
一種行業標準、價格低廉、用途廣泛的臺式薄膜厚度測量系統,已安裝了 5,000 多臺。它可用于從研發到生產現場在線測量的廣泛應用。
F20可以在1秒左右輕松測量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系數。
它還支持多點在線測量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信,因此可以從PLC或上位機控制。
ScAlN 薄膜厚度檢測特點
支持廣泛的薄膜厚度(1 nm 至 250 μm)
支持寬波長范圍(190nm 至 1700nm)
強大的膜厚分析
光學常數分析(折射率/消光系數)
緊湊型外殼
支持在線測量
測厚技術的主要用途
平板 | 單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR薄膜、 各種光學薄膜等 |
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半導體 | 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
光學鍍膜 | 減反射膜、硬涂層等 |
薄膜太陽能電池 | CdTe、CIGS、非晶硅等 |
砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等 | |
醫療保健 | 鈍化、藥物涂層等 |
相關設備介紹
模型 | F20-UV | F20 | F20-近紅外 | F20-EXR | F20-UVX |
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測量波長范圍 | 190 – 1100nm | 380 – 1050nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm | 190 – 1700nm |
膜厚測量范圍 | 1nm – 40μm | 15nm – 70μm | 100nm – 250μm | 15nm – 250μm | 1nm – 250μm |
準確性* | ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | ||
1納米 | 2納米 | 3納米 | 2納米 | 1納米 | |
測量光斑直徑 | 支持1.5 毫米或 0.5 毫米最小 0.1 毫米(可選) | ||||
光源 | 氘· 鹵素 | 鹵素 | 氘· 鹵素 |
* 由 Filmometry 提供的在 Si 基板上測量 SiO2 薄膜時的設備主體精度。
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